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酌射线和原子氧辐照对ZnO 颐Al 薄膜的影响
引用本文:王文文,刁训刚,王天民.酌射线和原子氧辐照对ZnO 颐Al 薄膜的影响[J].宇航材料工艺,2010,40(3).
作者姓名:王文文  刁训刚  王天民
作者单位:北京航空航天大学物理科学与核能工程学院
摘    要:利用直流磁控溅射法制备了两组ZAO 薄膜,使用60 Co 放射源对一组薄膜进行了酌射线辐照,在原子氧地面模拟设备中对另一组进行了原子氧辐照,并对辐照前后的样品进行了微观结构、表面形貌及电学特性的表征。结果表明,较高剂量率的酌射线辐照会降低薄膜的结晶程度,而低剂量率的辐照有相反作用。酌射线可激发薄膜中的电子,提高其载流子浓度,最大比率为16. 39%。AO 辐照仅对ZAO 薄膜的表面具有氧化效应,导致表面化学成分中晶格氧比例的提高和薄膜载流子浓度的下降。随着薄膜厚度的增大,载流子浓度的下降比例逐渐减小。


关 键 词:透明导电氧化物  ZnO颐Al  薄膜  酌射线  原子氧  电学性能
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