纳米硅薄膜的氧化特性 |
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作者姓名: | 刘明 傅东锋 崔志燮 江兴流 |
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作者单位: | 北京航空航天大学,应用数理系;烟台大学,电子系 |
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摘 要: | 将nc-Si:H薄膜进行等离子和高温氧化处理,测量了样品的氢,氧含量,Raman谱,红外吸收谱,光致发光(PL),结果表明两种氧化方式都将氧掺入薄膜中,但不同处理方式氧在薄膜中的键合形式不同Raman谱表明氧化处理对薄膜中晶粒大小及晶态比没有影响,用晶粒-表面模型对氧化引起的光致发光(PL)蓝移进行了解释。
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关 键 词: | 光致发光 表面复合 量子效应 表面态 |
修稿时间: | : 1997-09- |
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