一种评估空间环境下半导体材料损伤的模拟方法

提出了一种模拟空间环境下半导体材料晶格损伤速率的方法, 计算了375km轨道高度不同纬度空间位置的飞行器模型中硅片产生晶格损伤的速率. 本方法考虑了宇宙射线的质子、正负电子、中子和γ射线成分, 建立了简单的多层飞行器结构模型, 并通过模拟给出了芯片上氕、氘、氚、氦、正负电子、正负π介子、γ射线及中子的损伤结果. 相比给出材料中的非电离能量损失, 更进一步给出了晶格损伤的产生速率, 为半导体器件的可靠性评估提供了进一步的参考数据.