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散粒磨粒抛光运动轨迹的分析及数学模型的建立 总被引：3，自引：0，他引：3
通过对散粒磨粒抛光过程中的运动轨迹的分析与研究，提出以运动参数为控制因子的磨粒运动轨迹的数学模型，为实现计算机控制抛光过程奠定一定的基础 相似文献
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