物理气相沉积工艺及其在宇航工业中的应用

引言材料、能源和信息工程是近代社会的三大支柱,而材料又是能源和信息工程的基础。研究、发展新材料,改进材料的质量和合理使用材料,目前集中到两个方面:一是研究材料的内部结构,如非晶、微晶、高完整性结晶等问题,另一个是研究材料的表面,如摩擦、磨损、硬化、防腐蚀、润滑等问题。后者涉及到表面物理、表面化学等许多学科理论和专门技     

离子镀机理

离子镀是应用于膜沉积工艺的一个常用术语。在该工艺中,基材表面和/或沉积膜受到高能粒子流的作用,足以导致在界面区域或膜与未经轰击沉积情况相比诸多性质的改变。离子镀正是取代溅射沉积、真空蒸发和电镀的一种涂层新工艺。为了对各种沉积技术恰当地选用,有必要了解有关离子镀的基本机理。该文评述了当采用离子镀时,低能离子轰击对表面、界面的形成以及膜的生长的影响。离子镀的许多问题目前仍不明确,因而希望通过呼吁引起对这些问题的重视,科研工作者和工艺学家们能把较多的精力投向研究和控制离子镀工艺。