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1.
金刚石膜在宇航应用中的新进展   总被引:6,自引:0,他引:6  
金刚石膜的研究已进入了以应用为主的阶段。介绍了金刚石膜的最新发展水平;概括了它们的空间光学摩擦润滑,空间电子装置的热管理和环境探测方面的一些应用;指出了金刚石膜航天工业中的重要性,它们的相互促进关系和发展前景。  相似文献
2.
直流磁控溅射ZnO:Al薄膜的光电和红外发射特性   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
 以锌、铝合金(ω(Al)=3%)为靶材,利用直流反应磁控溅射法制备了系列掺铝氧化锌ZnO:Al(ZAO)薄膜样品,通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、霍耳效应及红外发射率测量仪等测试仪器或方法表征了样品的结构、形貌、光学、电学及红外发射特性.测得样品最低电阻率达到1.8×10-6(Ω·m),最大禁带宽度为3.47?eV,可见光区平均透过率达到90%,8~14?μm波段平均红外发射率在0.26~0.9之间.上述特性均随衬底温度和溅射功率的变化有着规律的变化.当方块电阻小于45?Ω时,薄膜在8~14?μm波段平均红外发射率与方块电阻遵循二阶函数变化规律.  相似文献
3.
VO2热致变色薄膜的结构与光电性能研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
研究了用磁控溅射制备的VO2热致变色薄膜,用X射线衍射,X射线光电子谱和原子力显微镜对薄膜的结构进行了分析,对薄膜的光学和电学特性也进行了研究。  相似文献
4.
掺磷纳米硅薄膜的微结构   总被引:4,自引:0,他引:4       下载免费PDF全文
采用喇曼(Raman)散射谱、高分辨率电子显微镜(HRTEM)和原子力显微镜(AFM)对掺磷纳米硅薄膜的微结构进行了分析,并对纳米硅薄膜的传导机制进行了探讨.结果表明:掺磷纳米硅薄膜由尺寸为2~4*#nm的晶粒和2~3个原子层厚的非晶界面构成,计算得到薄膜的晶态比为40%~55%.与本征纳米硅薄膜相比,掺磷纳米硅薄膜晶粒尺寸和晶态比没有明显变化,电导率却提高了2个数量级.随着掺磷浓度增加,纳米硅薄膜的晶粒尺寸、晶态比及电导率逐渐增大.AFM观察表明掺磷纳米硅薄膜由尺寸介于15~20*#nm的团簇构成,团簇排列具有带状特征.  相似文献
5.
质谱薄膜联用小型气体泄漏检测仪研制   总被引:2,自引:0,他引:2  
传统的监测技术在往往采用单一的方法或者采用质谱加色谱联用的技术,设备大都比较笨重,操作复杂,随着现代工业的发展,急需研制体积小,质量轻在便携式仪器,同时具备灵敏度高,分辨能力强,可靠性高等特点的检测仪。利用质谱检测的高分辨能力和敏感膜的高灵敏度,文章提出了质谱和加薄膜联用进行气体泄漏监测的全新思路,并主要论述了检测仪的研制和性能实验研究等内容,最后结合其在航天领域的应用,对甲基膨,无水肼等气体进行  相似文献
6.
新型星用导电型Kapton基热控材料   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了一种新型导电型Kapton基热控材料,其导电层采用了TO(氧化锡)膜。这种TO膜具有很高的光学透明度,方阻在10^4Ω ̄10^6Ω范围内,可有效地抑制卫星表面的充放电现象。经过8200h太阳当量紫外辐照后,TO/Kapton/Al热控材料的αs相对变化率Δα3/α5仅为6.7%。在TO/Kapton与Kapton试样的8000h的紫外辐照对照实验中,表明TO膜具有明显的紫外辐射防护功能。在-  相似文献
7.
电沉积烧结薄膜高温氧化性能研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
用电沉积烧结方法在1Cr18Ni9Ti不锈钢表面形成铬、钇氧化物薄膜,通过研究比较不同沉积条件试样氧化层的高温氧化行为,发现1Cr18Ni9Ti表面经铬、钇氧化物改性后抗高温氧化性能得到提高。  相似文献
8.
防原子氧与抗辐射环境薄膜性能研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
金属氧化物薄膜具有良好的光学,电学特性,因此是卫星表面热控材料防静电积累的重要材料之一。实验研究发现这些金属氧化物薄膜还是具有优良的防原子氧和抗空间辐照环境的能力,而且这种能力与成膜方法及工艺过程直接相关。经模拟原子氧环境的氧等离子体作用后,溅射镀氧化锡样品的质损明显小于蒸镀氧化铟锡薄膜的质损,而氧化铟锡薄膜的质损又小于未镀薄膜试样质损。  相似文献
9.
介绍了利用薄膜成型技术,在非金属试验件表面用真空离子溅射技术制作薄膜热电偶,进行表面温度测量,并探讨薄膜热电偶在瞬态加热条件下与粘贴的常规热电偶在测温结果上的区别,为今后将薄膜制作技术应用于温度、热流密度及高温应变测量打下基础。  相似文献
10.
静电拉伸空间薄膜反射镜面形控制机理研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
薄膜反射镜将解决反射镜孔径与重量相互制约的问题.采用静电拉伸法控制薄膜反射镜面形,具有结构简单、反射镜面形易于控制等优点,其原理为利用静电场上库仑力作用使薄膜产生面形变化,生成所需的光学曲面.由于薄膜变形力学,以及静电场理论的复杂性,目前薄膜成形及其面形控制在理论分析上仍未有定量的结果.本文主要以单电极静电场中的薄膜反射镜面形为考察因素,通过数值计算的方法得到薄膜反射镜上的静电力分布,运用有限元分析获得该分布下的反射镜面形,并将其与理想面形进行比较.提出采用多电极闭环控制可获得更高的控制精度,对静电拉伸薄膜的研究具有一定的指导意义.  相似文献
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