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1.
捷联惯导系统的圆锥误差补偿算法研究   总被引:10,自引:3,他引:7  
非互易向量的确定与补偿是影响高动态、恶劣振动环境下捷联惯性导航系统姿态矩阵计算的重要问题。为了补偿由此引起的圆锥误差,本文对一些传统算法进行了分析和研究。由于以往各种算法一般都需要输入信息为角度信息,但对于高动态、恶劣振动环境,角速度信息更有工程意义,所以针对输入信息为角速度的情形,提出了一类新的姿态算法,通过对比传统的算法,新算法在同样计算量、存储量的情况下有较优的性能,算法的精度较传统的算法高。另外,对新的姿态算法进行了误差分析.为其参数选择提供了选择标准,有工程实用价值。  相似文献   
2.
从理论上建立了离子束抛光中切向定位误差对加工残差影响的模型,分析发现了该误差对加工残差的影响与面形的梯度有关.特别地分析了定位误差对不同频率成份误差的影响规律,并进行了仿真研究,验证了残差大小与相对定位误差成正比这一结论.同时利用相对定位误差对残差影响理论,评价了KDIBF1600离子束抛光机的设计精度,机床设计精度满...  相似文献   
3.
研究了射频中和器的工作原理,并且设计了射频中和器结构,实现了射频中和器的稳定工作。实验结果表明:射频中和器能够稳定引出电子束,有效中和离子束;在射频中和器不启动时去除函数峰值去除率仅有6nm/min,射频中和器正常工作时去除函数峰值去除率达到了72.5nm/min;并且射频中和器的中和能力与空心阴极中和器相当。因此,射频中和器满足光学加工对中和能力的需求,具备应用于光学加工的能力。  相似文献   
4.
用线扫描方法研究某种型号的3cm卡夫曼离子源的稳定性,先介绍了线扫描法估计去除函数的方法以及其数学模型,用线扫描法扫描两块微晶镜面,估计出在不同时间的去除函数,分析去除函数的波动情况来考察离子源稳定性。结果表明该种型号的3cm卡夫曼离子源具有很好的稳定性,满足光学镜面加工要求。  相似文献   
5.
针对KDP晶体材料在离子束加工时晶体表面粗糙度变化情况进行了研究,研究了束电压和束电流的大小对KDP晶体表面粗糙度的影响,采用PSD功率谱分析方法探究了KDP晶体在离子束加工前后表面粗糙度频域分布及其演变情况,研究结果表明KDP晶体表面粗糙度的变化不仅与加工工艺参数有关还与材料本身性质有关,在采用较大入射角时可以使晶体表面的高频段误差得到改善.  相似文献   
6.
运用参数化设计软件Pro/M,分析比较了半椭圆弹性铰链和其他类型弹性铰链的性能特征。同时提出了一种双轴半椭圆弹性铰链,在其他参数保持不变且定绞长的条件下,弹性变形随着绞间距的增加(椭圆长半轴相应减少,其长短轴之比减小)而增加,由此引起的应力也增加。  相似文献   
7.
在研究了射频离子源的结构、工作原理和性能的基础上,进行了光学镜面抛光离子束的去除效率与稳定性测试。实验结果表明射频离子源去除函数的形状为回转高斯形,利用Φ15mm的栅网,在靶距为30mm、离子能量900eV时,去除函数的峰值去除率为194nm/min,体积去除率为19.2×10-3mm3/min,半峰全宽值为9.2mm;并且去除函数的峰值去除率与体积去除率的变化均在3%以内,半峰全宽值的变化在1.7%以内。因此,射频离子源具有光学镜面抛光加工所需的去除效率,而且射频离子源具有好的稳定性,具备光学加工的潜能。  相似文献   
8.
利用束流修正理论和蒙特卡罗模拟法对离子束加工中某一工艺参数下工件吸收的功率进行理论建模,然后采用测温实验对理论模型进行验证.设计实验时,利用有限元仿真确定了一种合理的轰击靶材铜,简化了实验并且方便了计算.  相似文献   
9.
捷联惯性导航系统的姿态算法   总被引:6,自引:0,他引:6  
非互易向量的确定与补偿是影响高动态、恶劣振动环境下捷联惯性导航系统姿态矩阵计算的重要问题.为了补偿由此引起的圆锥误差,对一些传统算法进行了分析和研究.由于以往各种算法过多过杂,不便于工程中选用,所以通过对传统的各种姿态算法的原理及数学形式进行归纳分析和研究,提出了通用的算法公式.另外,还提出将剩余误差表示为采样时间与角振动频率乘积的幂次,并根据此幂次来评定圆锥补偿算法的精度的方法.在此基础上,对所提出的通用姿态算法公式进行了误差分析,得到了关于算法精度和参数之间关系的一些结论,为其参数选择提供了选择标准,有工程实用价值.  相似文献   
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