以“精”为业助力航空——走进精密制造技术航空科技重点实验室

精密制造技术作为装备制造业中的关键技术,长期以来被世界各国列为产品研发和技术应用的重点。精密制造技术航空科技重点实验室依托于北京航空精密机械研究所,以国家重点工程与型号的任务需求为牵引,紧密围绕航空武器装备的科研与生产任务,长期从事精密/超精密加工、精密测量、智能制造等基础及应用基础研究,为我国多个型号航空武器装备的研制、生产与发展做出了很大贡献,并且创造出了显著的经济与社会效益。     

基于聚乙二醇的剪切增稠软体膜的制备与表征

研究了纳米二氧化硅-聚乙二醇剪切增稠软体膜(STF)的制备过程与性能表征。以乙醇和丙酮为稀释剂,以气相法生产的纳米二氧化硅和聚乙二醇为原材料,混合使用机械搅拌器和超声波清洗器制备出了不同质量分数的剪切增稠软体膜。通过红外光谱表征、流变性能测试,研究了剪切增稠软体膜的形成特征、不同状态下剪切增稠软体膜的变化、不同质量分数的剪切增稠软体膜的变化特征以及纳米二氧化硅质量分数对剪切增稠的影响。结果显示:剪切增稠分散体系的形成有新的化学键的形成,但是剪切增稠现象是一种物理现象,没有发生化学反应。剪切增稠分为的4个阶段,即:剪切不稳定、剪切变稀、剪切增稠、再次剪切变稀阶段,并且质量分数越大,剪切增稠效果越明显。     

宇宙有多大?

正在天体物理学中,没有比空间有多大这个问题更大的实证问题了。下文简述的就是有关宇宙的大小和形状的观念史。空间大得令人难以置信;但是也没什么好担心的。道格拉斯·亚当斯在《银河系旅行指南》中这样描述:"空间巨大、超大、无比大,大得令人难以置信。我的意思是说,你可能认为道路漫长,最终在     

基于快速扫描的飞机大型蒙皮自适应加工技术

飞机蒙皮零件具有外形复杂、尺寸大、刚性小、加工难度大等特点,近年来出现的蒙皮镜像铣技术可以实现蒙皮零件的高精度绿色加工。由于蒙皮毛坯存在成形误差,且其刚度小,装夹力和毛坯自身的重力也会引起变形,导致其实际型面与设计型面会存在一定的偏差。针对以上问题,提出了基于快速扫描的飞机大型蒙皮自适应加工技术,即通过在机激光扫描快速获取蒙皮实际型面,然后基于特征映射移植加工程序,快速生成适用于实际型面的加工程序的技术,并已将该技术成功运用于实际生产。所提出的自适应加工技术解决了蒙皮镜像铣技术的关键难题,能够高效生成加工程序并满足蒙皮零件的厚度精度和外形精度要求,有效提升了蒙皮的生产效率,为国产大飞机量产奠定了技术基础。     

人类飞行创意史——飞行简史(一)

正人类对飞行的想象和膜拜,几乎贯穿了整个历史。除了飞行,我们再难找到什么事情让各个民族都不肯认输。从神话到远古传说,从灵感爆发到壮烈地亲身试验,人类坚持飞行,屡败屡战,经过了数千年,直到终于实现离地起飞。     

PIP 工艺对2D C/ SiC-ZrB2 复合材料结构和力学性能的影响

采用CVI结合SI及PIP工艺制备2D C/SiC-ZrB2复合材料.研究了PIP工艺中循环浸渍次数及热处理对复合材料结构和力学性能的影响.比较了多孔C/SiC浸渍浆料后用PIP结合CVI致密化和仅用CVI致密化的效果.结果表明:浸渍裂解后,热处理温度相同,热处理次数对复合材料的开孔率和弯曲强度影响不大.2D C/SiC-ZrB2复合材料的弯曲强度不随PIP次数的增多而增加,PIP处理二次后,复合材料的强度逐渐增加,PIP处理五次,强度达到最大值,制备的复合材料开孔率为8.0%、弯曲强度为423 MPa.SI后用PIP结合CVI致密化比仅用CVI致密化效果好.     

微小孔电化学去毛刺试验研究

采用电化学方法对不锈钢管壁上钻削的微小孔与不锈钢管内壁相贯处难到达区域的毛刺进行去除。实验研究了加工时间、电解液成分与浓度、电解液流动方式对微小孔毛刺去除质量的影响以及相应条件下阴阳极极间电压的变化规律。研究结果表明:在优选的加工工艺参数条件下,可有效地去除微小孔毛刺。     

MES系统在导弹整修质量管理过程中的应用

初步探讨了KMMES系统在导弹整修质量管理过程中的应用。系统通过对人、机、料、法、环、测6要素的有效管理,完成了对各种资源的优化配置和导弹整修全过程的质量控制,实现了导弹整修的科学化、信息化、标准化管理,有力推动了导弹整修工作的高效开展。     

一种线运动扰动环境下基于惯性凝固系抗干扰自对准优化算法研究

传统惯性凝固性对准技术可有效隔离角运动干扰环境对捷联惯导自对准精度的影响,但对线运动环境下的抗干扰能力不足.据此,在深入分析线运动干扰对捷联惯导惯性凝固系下自对准精度影响途径之上,对线运动干扰环境划分为速度周期波动、突跳以及速度短期线性漂移.提出采用积分降噪、载体惯性系速度递推拟合与基于带遗忘因子递推最小二乘的速度慢漂提取技术相结合的抗干扰自对准优化算法,并进行了试验验证.试验结果表明,本算法可在5min内实现1.3mil的抗干扰自对准精度.