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相似文献
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1.
以丙烯酰胺、N,N’-亚甲基双丙烯酰胺、碳酸锂、硝酸铝和正硅酸乙酯为原料,采用丙烯酰胺凝胶法成功地制备出多组分氧化物Li2O-Al2O3-SiO2(LAS)微晶玻璃超微粉末,并掺杂了稀土氧化物La2O3。将粉体压制烧结得到微晶玻璃块体。用IR,XRD,SEM等测试手段研究了掺杂对微晶玻璃组织与性能的影响,测定了微晶玻璃的热膨胀系数。实验表明:La2O3的加入使微晶玻璃的相变温度降低到900℃;掺杂后微晶玻璃的粒径减小;丙烯酰胺凝胶法制备的Li2O-Al2O3-SiO2(LAS)微晶玻璃热膨胀系数达到10^2数量级,掺La2O3,使Li2O-Al2O3-SiO2(LAS)微晶玻璃的热膨胀系数增大。  相似文献   

2.
设计制备了与1Cr17和0Cr18Ni9不锈钢匹配的CaO-Al2O3-SiO2(CAS)系和BaO-Al2O3-SiO2(BAS)系微晶玻璃,研究了微晶玻璃的各项理化性能。利用流延法制备微晶玻璃生带,以此制备符合曲面不锈钢/微晶玻璃层状复合材料,并对复合材料相关性能进行测试。结果表明,所设计制备的玻璃经850℃、30min热处理后可形成线胀系数与对应不锈钢匹配的微晶玻璃,且具有适宜弯曲强度和较低介电常数、介质损耗;由此制备的曲面不锈钢/微晶玻璃层状复合材料具有良好的绝缘性能、结合强度和抗热冲击性能。  相似文献   

3.
罗发  周万城  焦桓  赵东林 《航空学报》2003,24(3):273-277
 采用热压和凝浇注无压烧结的方法制备了Li2O-Al2O3-SiO2 玻璃陶瓷阻抗变换层,研究表明烧结的工艺方法和参数对该玻璃陶瓷的致密度和复介电常数有很大的影响。在较高烧结温度和压力下,该玻璃陶瓷的复介电常数保持不变。降低烧结温度和压力时,能够得到一系列复介电常数在较小范围内变化的Li2O-Al2O3-SiO2 玻璃陶瓷,但复介电常数不随频率发生变化。将该玻璃陶瓷作为吸波材料的阻抗变换层后,大幅度提高了材料的吸波性能,而且其制备工艺对吸波性能也有一定的影响,可以通过改变该玻璃陶瓷的烧结条件来满足不同吸波材料设计对阻抗匹配层的多种要求。  相似文献   

4.
为获得同时具有低表面粗糙度和高面形精度的微晶玻璃基片,利用PS(聚苯乙烯)微球和CeO2磨粒制备出核壳型复合磨粒,替代了单一CeO2磨粒进行抛光试验。通过全因子试验研究PS微球粒径和质量浓度对微晶玻璃基片的材料去除率(MRR)、表面粗糙度和面形精度的影响。试验表明:MRR随着PS微球质量浓度的增大而减小,随着PS微球粒径的增大而增大;PS微球粒径为20μm时,工件塌边显著减小;表面粗糙度随着PS微球浓度的增大而增大。  相似文献   

5.
微晶玻璃因其良好的机械性能和较高温度下的化学稳定性而被用作激光陀螺反射镜基底材料,但两相多晶结构又使其清洗后易受腐蚀,损伤超光滑表面。通过对微晶玻璃化学稳定性进行分析,确定适宜清洗微晶玻璃超光滑表面的无腐蚀性清洗剂。通过对清洗剂体积浓度、清洗温度、清洗时间的研究,确定了清洗剂的清洗参数。根据优化后的工艺参数进行清洗,微晶玻璃超光滑表面粗糙度由清洗前的0.117nm降低到清洗后的0.061nm,接触角由清洗前的22.5°降低到清洗后的5.1°,镀膜后积分散射均值为8.0×10-6,最终获得微晶玻璃反射镜高洁净低损伤超光滑表面。  相似文献   

6.
硅微晶玻璃超精密磨削技术的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了应用铸铁结合剂金刚石微粉砂轮和在线电解修整(ElectrolyticIn-procesDresing,简称ELID)磨削技术对硅微晶玻璃材料零件进行的超精密磨削实验。通过改变磨削参数并用力和声发射信号对磨削过程进行在线检测,对硅微晶玻璃材料的磨削进行了分析研究。实验结果表明用ELID磨削方法磨削硅微晶玻璃可以达到良好的镜面磨削效果  相似文献   

7.
在自制的化学机械复合抛光装置上,研究了微晶玻璃小孔的高精度化学机械抛光技术,利用触针式轮廓仪对小孔抛光表面进行测量,讨论抛光浆料、主轴转速对表面粗糙度的影响。研究结果表明,采用化学机械复合抛光技术可使微晶玻璃的小孔具有更好的表面质量。  相似文献   

8.
采用溶胶一凝胶法,钛酸丁酯和正硅酸乙酯为前驱体,在玻璃载体上制备了具有光致亲水性能的复合型TiO2-S iO2薄膜。研究了试剂配比、试剂加入方式、凝胶时间、镀膜速度、焙烧升温速度等对薄膜性能的影响。通过对试剂配比和工艺参数的优化,提高了复合薄膜的亲水性能。  相似文献   

9.
针对目前电沉积法制备的CuInS_2(CIS)薄膜存在S元素含量不足以及微观形貌差的问题,通过在普通镀液中加入SiO_2溶胶,采用一步电沉积技术在ITO导电玻璃上制备Cu-In-S预制薄膜,镀液的主要组成为金属盐、硫代硫酸钠和不同浓度SiO_2溶胶.在空气气氛中对Cu-In-S预制薄膜进行退火处理以获得多晶的CIS薄膜,并通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)及开路电位对CIS薄膜的结构、形貌、成分组成及光响应性能进行研究.结果表明:SiO_2溶胶浓度为4 mL/L时,得到的CIS薄膜的结晶度提高,同时,SiO_2溶胶作用下得到的CIS薄膜的表面形貌、成分组成和光响应性能都得到改善.因此,镀液中加入SiO_2溶胶有利于提高CIS薄膜的性能,尤其是浓度为4 mL/L时,性能提高得最为明显.  相似文献   

10.
朱立群  陈海宁  李卫平 《航空学报》2009,30(11):2229-2233
 针对目前电沉积法制备的CuInS2(CIS)薄膜存在S元素含量不足以及微观形貌差的问题,通过在普通镀液中加入SiO2溶胶,采用一步电沉积技术在ITO导电玻璃上制备Cu In S预制薄膜,镀液的主要组成为金属盐、硫代硫酸钠和不同浓度SiO2溶胶。在空气气氛中对Cu In S预制薄膜进行退火处理以获得多晶的CIS薄膜,并通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)及开路电位对CIS薄膜的结构、形貌、成分组成及光响应性能进行研究。结果表明:SiO2溶胶浓度为4 mL/L时,得到的CIS薄膜的结晶度提高,同时,SiO2溶胶作用下得到的CIS薄膜的表面形貌、成分组成和光响应性能都得到改善。因此,镀液中加入SiO2溶胶有利于提高CIS薄膜的性能,尤其是浓度为4 mL/L时,性能提高得最为明显。  相似文献   

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