首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

基于MOCVD欧姆再生长制备的高性能AlGaN/GaN HEMTs
作者姓名:徐佳豪  祝杰杰  郭静姝  赵旭  马晓华
作者单位:西安电子科技大学,西安 716000
基金项目:国家自然科学基金(编号:62174125)
摘    要:本文基于MOCVD欧姆再生长技术,制备了高性能的AlGaN/GaN HEMTs。器件具有016Ω·mm的低欧姆接触电阻,并且在100K到425K的温度范围内,欧姆接触电阻表现出良好的热稳定性。由于欧姆接触电阻的改善,源漏间距Lsd为2μm,栅长Lg为100nm的器件的最大饱和电流密度ID,max为1350mA/mm,跨导峰值Gm,max为372mS/mm,导通电阻Ron为1.4Ω·mm,膝点电压Vknee为1.8V。此外,器件也表现出优异的射频特性,电流增益截止频率fT为60GHz,最大振荡频率fmax为109GHz,在3.6GHz下,VDS偏置在15V,器件的功率附加效率PAE为67.1%,最大输出功率密度Pout为3.2W/mm;在30GHz下,VDS偏置在20V,功率附加效率PAE为43.2%,最大输出功率密度Pout为5.6W/mm,这表明了基于MOCVD欧姆再生长技术制备的AlGaN/GaN HEMTs器件在Sub-6G以及毫米波波段的应用中具有巨大潜力。

关 键 词:AlGaN/GaN  HEMTs  欧姆再生长  MOCVD

High-performance AlGaN/GaN HEMTs with MOCVD regrown ohmic
Authors:XU Jiahao  ZHU Jiejie  GUO Jingshu  ZHAO Xu  MA Xiaohua
Abstract:
Keywords:AlGaN/GaN HEMTs  regrown ohmic  MOCVD
点击此处可从《》浏览原始摘要信息
点击此处可从《》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号