| TiA1双层辉光离子渗Cr的工艺研究 |
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| 引用本文： | 郑传林,谢锡善,董建新,徐重,贺志勇.TiA1双层辉光离子渗Cr的工艺研究[J].宇航材料工艺,2002,32(2):51-54. |
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| 作者姓名： | 郑传林 谢锡善 董建新 徐重 贺志勇 |
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| 作者单位： | 1. 北京科技大学材料学院高温合金室,北京,100083
2. 太原理工大学表面工程研究所,太原,030024 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 利用双层辉光离子渗金属技术（DGPSAT）对TiA1金属间化合物进行渗Cr处理。研究了主要工艺参数对渗层表面合金含量CA和渗层厚度δ这两个目标函数的影响。结果表明，表面合金含量CA和渗层厚度δ随源极电压Vs、有效功率密度比k的增加而增加；随阴极电压Vc的增加而减少。气压存在一个峰值，太高或太低都不利。工艺参数的最佳值；源极电压Vs为1200V～1300V，阴极电压的200V～300V，有效功率密度比k为4～5，气压为25Pa～30Pa。
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| 关 键 词： | 双层辉光离子渗Cr TiA1金属间化合物 工艺参数 金属表面热处理工艺 |
Processing of Double Glow Plasma Chromising on TiAl Intermetallics |
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