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20K冷背景的研制及其应用
引用本文:
任元狮,杨毅,万绍俊.20K冷背景的研制及其应用[J].航天器环境工程,1997(1).
作者姓名:
任元狮
杨毅
万绍俊
作者单位:
北京卫星环境工程研究所,北京卫星环境工程研究所,国防科工委指挥技术学院
摘 要:
介绍20K冷屏在研制过程中的热设计和制造过程中解决的关键工艺问题,如材料选择、焊接等。并对冷屏的漏气率、发射率进行了测试。经过多光谱扫描仪合练定标试验证明,冷屏的实际技术性能均超过了设计的技术指标。
关 键 词:
传热
低温
真空
空间环境模拟
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